多靶離子束濺射鍍膜機是研究超導、類金剛石、光學、磁性等高質量薄膜和材料表面改性的光機一體化的現(xiàn)代化鍍膜設備。該機采用四靶、雙離子源、離子源為考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正離子束或中性粒子轟擊靶材料，使材料表面的原子和分子從母材中濺射出來，沉積在基片上成膜。可鍍制任意材料，包括金屬、合金、超導體、半導體、絕緣體等。該機采用80年代剛剛發(fā)展起來的離子束濺射技術，利用雙離子源、主槍，對靶材轟擊，輔槍在鍍前對基片進行清洗，增強基片的活性，提高結合力及純度。沉積過程中低能轟擊膜，增強沉積原子表面擴散和遷移，減少薄膜結晶結的缺陷，并配有對基片處理的各種功能，如加熱、冷卻、旋轉、激光處理、掩膜等。引出柵φ25mm離子能量，1500ev能量束流大于80mA。

　　多靶離子束濺射鍍膜機系統(tǒng)在高精度光學薄膜沉積應用中處于領先地位。多靶離子束濺射鍍膜機是當今僅存的在同一系統(tǒng)可互換使用行星型，簡單旋轉型或可翻轉型基片裝置的系統(tǒng)。

　　在通信應用上，能用于沉積高產值的200，100和50GHz 具有窄通帶, 寬截止頻帶, 高隔離度, 低插損特性的DWDM濾波器，滿足最為嚴格的性能指標。在其它高精度光學應用上，多靶離子束濺射鍍膜機能用于沉積增透膜，復雜的非四分之一波長膜層，以及吸收和散射低于百萬分位的超低損耗激光鏡。