CCZK-SF磁控濺射鍍膜機(jī)，具備成膜速率高，基片溫度低，膜的粘附性好，可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜相對(duì)于傳統(tǒng)蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，磁控濺射鍍膜可獲得更為優(yōu)秀的膜層致密性，均勻性和結(jié)合力采用最為先進(jìn)的直流或中頻磁控濺射電源，滿足不同層次客戶需求

　　腔體結(jié)構(gòu)： 立式前開門，臥式前開門。

　　材質(zhì)用料：腔體材質(zhì)為SUS304不銹鋼或碳鋼

　　真空系統(tǒng)： 擴(kuò)散泵(可選分子泵)+羅茨泵+機(jī)械泵+維持泵(另有深冷泵系統(tǒng)可供選擇)

　　濺射靶材： 中心圓柱靶，平面靶，孿生靶等

　　磁控電源： 可配備直流或中頻磁控濺射電源

　　轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)： 變頻調(diào)速，公自轉(zhuǎn)結(jié)合，可根據(jù)客戶產(chǎn)品和要求設(shè)計(jì)

　　膜層結(jié)構(gòu)： 單層膜、多層膜

　　氣體控制： 氣體流量控制儀集成觸控操作控制

　　人機(jī)界面： PLC智能控制+HMI觸摸屏

　　操作方式： 邏輯全自動(dòng)方式、半自動(dòng)方式、手動(dòng)方式

　　智能控制： PLC智能控制+HMI全彩人機(jī)觸控界面，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制

　　報(bào)警及保護(hù)：異常情況進(jìn)行報(bào)警，并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施。