磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)
2021-02-26 來自: 肇慶高要區(qū)恒譽(yù)真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數(shù):1659
磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備，磁控濺射具有以下兩大優(yōu)點(diǎn)：提高等離子密度，從而提高濺射速度;減少轟擊零件的電子數(shù)目，因而降低了基材因電子的升溫。
因此，該技術(shù)在薄膜技術(shù)中占有主導(dǎo)地位。磁控濺射陰極的大缺點(diǎn)：使用平面靶材，靶材在跑道區(qū)形成濺射溝道，這溝道一旦貫穿靶材，則整塊靶材即報(bào)廢，因而靶材的利用率只有20-30%。
不過，目前為了避免這個(gè)缺點(diǎn)，很多靶材采用圓柱靶材形式，靶材利用率得以大幅度提高。
上一條 ：
真空鍍鋁設(shè)備的2種形式及優(yōu)勢
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