離子鍍基本工藝流程

　?、俟ぜ念A(yù)熱.

　　一般的離子鍍方法使用烘烤加熱裝置對(duì)工件進(jìn)行加熱，而熱陰極離子鍍則是利用等離子電子束轟擊工件;電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對(duì)工件加熱，達(dá)到預(yù)熱的目的，有時(shí)電弧離子鍍也采用輔助烘烤加熱裝置對(duì)工件進(jìn)行預(yù)熱。

　?、陔x子轟擊濺射清洗.

　　一般離子鍍的離子轟擊濺射清洗是基片施加負(fù)偏壓，利用輝光放電產(chǎn)生的氬離子轟擊基片，對(duì)基片進(jìn)行離子轟擊濺射清洗，而熱陰極離子鍍是利用等離子電子束轟擊輔助陽級(jí)，氬離子轟擊基片進(jìn)行離子轟擊濺射清洗;電弧離子鍍是利用金屬離子轟擊工件，對(duì)工件加熱的同時(shí)對(duì)工件進(jìn)行離子轟擊濺射清洗。

　?、垭x子沉積.

　　不同的離子鍍方法在離子沉積時(shí)，所使用的源和離化方法不同，具體的設(shè)備不同，沉積的膜層不同，其工藝程序和工藝參數(shù)也不同，因此，應(yīng)根據(jù)具體情況確定沉積的工藝程序和工藝參數(shù)，還應(yīng)注意在整個(gè)沉積過程中保持工藝參數(shù)的穩(wěn)定。