真空鍍膜是由專用真空鍍膜機(jī)完成的,其工作流程及原理為:基片通過鍍膜機(jī)的機(jī)械手的搬運(yùn),進(jìn)入到鍍膜機(jī)的真空腔體里,經(jīng)過高壓電離的氬離子在強(qiáng)電場(chǎng)及強(qiáng)磁場(chǎng)的作用下,產(chǎn)生高速運(yùn)動(dòng),轟擊靶材表面,激發(fā)出的金屬離子附著在基片表面,形成一層反射膜。

　　基礎(chǔ)的真空鍍膜知識(shí)：

　　1.真空:用真空泵抽掉容器中的氣體,使空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓的氣體狀態(tài)，也就是該空間的氣體分子密度低于該地區(qū)大氣壓的氣體分子密度。

　　2.真空中殘存氣體的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用壓力表示單位(Pa)

　　3.1Pa就是1m2面積上作用1N的壓力。1大氣壓=1.03×105Pa

　　4.壓升率：單位時(shí)間內(nèi)，真空度降低的速率。單位：Pa/h

　　5.真空泵的抽氣簡稱抽速)(單位：L/S) :當(dāng)泵裝有標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)罩并按規(guī)定條件工作時(shí)，從試驗(yàn)罩流過的氣體流量與在試驗(yàn)罩上指定位置測(cè)得的平衡壓力之比。

　　6.極限真空度：(單位：Pa):在規(guī)定條件工作，在不引入氣體正常工作的情況下，趨向平穩(wěn)的最低壓強(qiáng)。