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發(fā)布時間：2021-02-26磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備的優(yōu)點
磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備，磁控濺射具有以下兩大優(yōu)點：提高等離子密度，從而提高濺射速度;減少轟擊零件的電子數(shù)目，因而降低了基材因電子的升溫。
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發(fā)布時間：2017-06-03磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備
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發(fā)布時間：2017-06-03蒸發(fā)式卷繞鍍膜設(shè)備
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