多弧鍍膜機工作原理
2017-12-27 來自: 肇慶高要區(qū)恒譽真空技術(shù)有限公司 瀏覽次數(shù):1586
多弧鍍膜機工作原理
多弧鍍膜機是一種高效、無害、無污染的離子鍍膜設(shè)備,具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡略、本錢低、出產(chǎn)量大的長處。
真空多弧鍍膜機偏壓電源的作業(yè)原理
離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜,關(guān)于導(dǎo)電靶材,運用直流偏壓電源;非導(dǎo)電靶材,運用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機,可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源
偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽極之間構(gòu)成偏壓電場,通常是陰極加負(fù)高壓。陰極外表的自由電子在電場效果下定向加快發(fā)射,發(fā)射電子炮擊氣體分子,使之電離,并且氣體被驅(qū)出的電子被電場加快,持續(xù)電離別的氣體分子,接二連三,構(gòu)成雪崩效應(yīng),氣體被擊穿,構(gòu)成穩(wěn)定的電離電流。此刻離子也被加快,炮擊靶材,將靶材中的原子驅(qū)除出外表,并堆積在樣品外表。