什么是離子鍍

　　離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱(chēng)為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。

　　離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng),將基片臺(tái)作為陰極，外殼作陽(yáng)極，充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過(guò)等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發(fā)料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場(chǎng)對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百～幾千電子伏)和氬離子對(duì)基片的濺射清洗作用，使膜層附著強(qiáng)度大大提高。

　　離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點(diǎn)，并有很好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。